이 기사는 2018년 07월 30일 15시53분 thebell에 표출된 기사입니다

중국의 반도체산업 투자 증가는 중장기적으로 에스앤에스텍에 호재로 작용할 것으로 기대된다. 반도체 등 공정에 필수 소재인 블랭크 마스크 수요가 증가할 수밖에 없기 때문이다.

27일 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 에스앤에스텍은 최근 3년 간 357억원을 투자했다. 지난 2015년 8월에는 150억원을 투자해 블랭크 마스크용 생산능력을 키웠다. 반도체 시장의 미세패턴 수요 대응과 중국의 디스플레이 시장 성장에 따른 경쟁력 강화 차원이다. 이듬해에는 207억원을 투자해 LCD와 OLED 용 블랭크 마스크 설비를 증설했다. 중국 패널업체의 10.5세대 수요 확대에 대응하고 기술 우위를 확보하기 위한 차원이었다.

지난해 신규 설비 양산 지연으로 일시적인 고정비 부담이 높아졌지만 하이엔드 블랭크 마스크가 양산될 경우 수익성 개선에 기여할 것으로 예상된다. 미세화 정도의 고도화는 하이엔드 블랭크 마스크의 수요 증가로 이어진다. 아울러 반도체 굴기를 선언한 중국이 신규 반도체, LCD 공장 신설을 앞두고 있어 매출에 호재로 작용할 전망이다. 일례로 중국 슈퍼마스크(Supermask)는 내년 가동을 목표로 신규 포토마스크 공장을 짓고 있다.

에스앤에스텍은 반도체와 디스플레이 공정에 필요한 재료인 포토마스크 원재료인 블랭크 마스크를 국내 최초로 생산했다. 바이너리 블랭크 마스크 기술과 더불어 하이엔드 기술인 위상시프트·하드마스크(반도체용), 하프톤·위상시프트(디스플레이용) 블랭크 마스크 기술을 갖고 있다. 일본의 호야(Hoya)와 울코트(Ulcoat) 등과 품질 경쟁에서도 우위를 갖고 있다. 글로벌 경쟁 기업들보다 진출이 늦었지만 현재 시장 점유율 2위에 올라 있다.

<반도체용 블랭크 마스크. 출처 : 에스앤에스텍 홈페이지>

에스앤에스텍의 신성장 동력 중 하나는 EUV(극자외선) 펠리클이 될 전망이다. EUV는 차세대 노광 장비다. 에스앤에스텍은 EUV 펠리클 개발에 나선 것으로 알려졌다. EUV 펠리클은 먼지로부터 마스크를 보호하는 부품이다. 삼성전자와 SK하이닉스 등도 관련 사업 개발에 나선 상황이다. 이와 관련 SK하이닉스는 27일 올해 말 3조5000억원을 투자해 경기도 이천에 반도체 신규 공장 건설 계획을 발표했다. 신규 공장에는 EUV 전용 공간 등을 조성키로 했다. 앞서 지난해 2월 삼성전자는 화성공장에 EUV 전용 공장도 착공하는 등 EUV 시장 규모는 점점 커지고 있다.

업계 관계자는 "중국이 반도체와 디스플레이 시장 확대를 위해 투자를 집행하면서 블랭크 마스크의 수요도 점차 증대되고 있는 상황"이라며 "특히 반도체 기술이 고도화되면서 미세공정 기술을 극복하기 위해 EUV에 대한 관심이 높아진 만큼 관련 기술과 제품 확보는 미래 먹거리 중 하나가 될 것"이라고 말했다.

한편 에스엔에스텍은 올 상반기 잠정기준 누적 매출 289억 7600만원, 영업이익 22억 5500만원을 각각 기록했다. 전년 동기대비 매출은 10.6%, 영업이익은 101.7% 각각 증가했다. 하지만 지난 2016년 상반기와 비교하면 매출(228억 8900만원)이 늘었으나 영업이익(48억 67800만원)이 절반 수준에 그쳤다.