이 기사는 2024년 06월 18일 15시33분 thebell에 표출된 기사입니다

원자층 박막증착(ALD) 장비 제조업체 넥서스비가 100억원 규모 시리즈B 투자 유치를 마무리했다. 자금을 조달한 넥서스비는 ALD 기술을 고도화하고 양산라인을 확보해 글로벌 시장 진출을 본격화한다는 계획이다.

18일 벤처캐피탈(VC)업계에 다르면 넥서스비는 시리즈B 투자 라운드를 100억원 규모로 클로징했다. L&S벤처캐피탈이 투자 라운드를 리드했고 스마일게이트인베스트먼트, 인라이트벤처스, 스틱벤처스, 쿨리지코너인베스트먼트, 신용보증기금, 바인벤처스 등이 투자자로 참여했다.

이번 시리즈B 투자 유치는 VC로부터 인기를 끌었다. 오버부킹이 발생할 정도로 다수 신규 투자자의 러브콜이 이어졌다는 후문이다. 투자에 참여한 한 VC 관계자는 "당초 목표액인 100억원을 넘을 상황이었지만, 회사 사업진행 사항을 고려해 조기 클로징했다"고 말했다.

넥서스비는 2015년 12월에 설립된 반도체, 디스플레이, 이차전지 분야에 사용되는 ALD 장비 전문기업이다. 주력 제품으로는 공간 분할 ALD 'Nexus Spatial ALD', 소형화 버전인 'Nexus Mini ALD' 등이 있다. ALD 장비가 필요한 국내외 대학 및 연구소, 기업을 대상으로 제품을 판매하고 있다.

미세공정이 중요해진 반도체 공정에서 ALD는 핵심 기술로 자리잡았다. ALD는 순차적인 반응가스 투입 및 잔류물 제거로 정밀한 두께 제어와 뛰어난 증착 균일성의 장점이 있지만 증착 속도가 느려 생산성이 떨어진다는 단점이 있다. 넥서스비는 원천기술인 공간분할 가스인젝터(Gas Injecting) 기술을 기반으로 높은 생산성을 지닌 ALD를 제조하고 있다.

넥서스비의 핵심 경쟁력은 기술력이다. 국내외 특허로 등록한 기술만 35건이다. 독자적인 가스 인젝터, 펌핑(Pumping) 기술을 기반으로 시분할·공간분할 ALD 기술을 모두 구현할 수 있다. 기존 ALD 장비의 단점인 낮은 생산성을 해결해 향후 글로벌 시장 진출에 유리할 것으로 회사 측은 판단하고 있다.

넥서스비는 차세대 전력반도체 국책 과제에 잇따라 선정되면서 기술력을 인정받았다. 넥서스비는 총 13개 국책과제 연구에 참여했다. 현재는 △대면적(M10-M12) p-PERC 핵심 소재부품기술개발 △고효율 고신뢰성 특성의 산화갈륨 전력반도체 소자 기술개발 두 분야에서 연구를 진행하고 있다.

넥서스비는 이번 시리즈B 라운드를 통해 조달한 자금을 ALD 기술 개발과 양산라인 확보에 투입할 방침이다. 현재 국내외 글로벌 메이저 장비사와 차세대 제품 개발협력을 하고 있으며, 이를 기반으로 글로벌 시장에 진출할 계획이다.

이번 라운드에 참여한 L&S벤처캐피탈 담당심사역은 "넥서스비는 대표이사를 포함해 ALD 분야 전문성이 우수한 팀으로 구성돼 있다"며 "설립 후 빠른 연구개발을 통해 제품판매 레퍼런스를 쌓아 왔다"고 설명했다. 이어 "기민한 영업력을 기반으로 현재 글로벌 메이저 기업과 선행기술 공동개발하고 있어 향후 잠재성이 높다"고 말했다.

넥서스비는 누적 투자금은 45억원 수준이다. 지난해 말 클로징한 시리즈A 라운드에는 세마인베스트먼트, 유비쿼스인베스트먼트 등이 투자자로 참여했다.