이 기사는 2019년 11월 22일 17시27분 thebell에 표출된 기사입니다

삼성전자가 대거 투자하고 있는 평택 2공장(P2)이 외관 공사 지연에도 불구 장비 발주에는 변동이 없는 것으로 전해졌다. 업계에서는 삼성전자가 메모리반도체 공급 과잉을 우려해 평택 2공장 건설을 의도적으로 늦추는 것이 아니냐는 의문이 제기되기도 했으나 현장의 분위기는 다르다. 삼성전자는 평택 2공장에 낸드플래시 생산라인을 우선 구축한 뒤 D램 라인에 대한 투자를 진행할 것으로 알려졌다.

25일 반도체 장비업계 관계자는 "삼성전자가 평택 2공장 설비에 대해 최초 요청한 납기에 대해 변동한 내용이 없다"며 "삼성전자에서 납품일을 일부 조정할 수는 있겠으나 그렇게 하지는 않을 것으로 본다"고 말했다. 납기는 삼성전자가 설비 공급을 요구하는 시점을 의미한다. 납기 시점은 내년 초로 알려졌다. 삼성전자는 지난 3분기 실적발표 컨퍼런스콜을 통해 평택 2공장을 2020년 가동할 예정이나 본격적인 양산시점은 정해지지 않았다고 밝힌 바 있다.


삼성물산은 지난 22일 삼성전자와 2017년 말 체결한 평택 P2라인 가시설 및 인프라 조성공사의 공사기간을 당초 11월 30일에서 내년 1월 31일로 연기한다는 정정 공시를 발표했다. 삼성물산이 P2라인 FAB동 공사를 위해 삼성전자와 체결한 계약금액은 1조5354억원에 달한다.

반도체업계에서는 삼성전자가 메모리반도체 업황을 의식해 의도적으로 시간 끌기를 하는 것이 아니냐는 분석을 내놓기도 했다. 반도체업계 관계자는 "최근 삼성전자가 투자하고 있는 평택 2공장과 중국 시안 2공장 모두 빠르게 생산을 진행할 경우 공급과잉을 부추길 우려가 있어 굳이 램프업(생산능력 증가)을 서두르지 않을 것"이라고 말했다. 삼성전자는 올해 평택 1·2공장과 중국 시안 2공장에 약 20조원 가량의 설비투자를 실시하는 것으로 알려졌다.

다만 삼성물산 측에선 평택 2공장 공사기간 연장이 반도체 업황과는 무관하다는 설명을 내놓았다. 회사 관계자는 "삼성전자가 발주하는 생산라인 공사는 '시간 싸움'이기 때문에 패스트트랙으로 진행해 설계가 완성되기 전부터 공사를 시작한다"며 "삼성전자 생산라인 공사는 내부 스펙 변경 때문에 늦어질 때가 있다"고 설명했다.

삼성전자는 평택 2공장을 메모리반도체 공장으로 조성 중이다. 삼성전자는 생산라인 구성에 대해 공개하지 않지만 업계에서는 초기 낸드플래시 생산이 중심이 될 것이라는 전망이 우세하다. 장비업계 관계자는 "삼성전자가 낸드플래시 설비를 우선 투자하고 D램은 이후 후순위로 투자한다"고 설명했다. 낸드플래시 생산라인을 조성한 뒤 D램 생산 체제를 구축한다는 의미다.

올해 삼성전자는 평택 2공장을 비롯해 화성 EUV 라인, 시안 2공장에 대규모 투자를 진행하고 있다. 평택 2공장을 세계 최대 메모리반도체 공장인 평택 1공장에 버금가는 규모로 설립하겠다고 밝힌 만큼 평택 2공장 투자금액이 올해 투자 중 상당 부분을 차지할 것이란 전망이다. 삼성전자는 2017년 평택 1공장 투자, 파운드리 10나노 공정 확대 등을 시작으로 매년 20조원이 넘는 설비투자를 실시하고 있다.