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에스앤에스텍, '2000억' 양산 투자 플랜 내년 가동 [반도체 소부장 국산화 열전]②지난해 삼성 지분투자 변곡점, 단계적 투자 시동…ASML 향 '퀄' 핵심 관문

대구=조영갑 기자공개 2021-12-10 08:44:18

[편집자주]

2019년 일본의 화이트리스트 품목 배제로 촉발된 소부장(소재·부품·장비) 국산화는 거스르기 힘든 순류(順流)를 만들었다. 특히 일본이 정면으로 겨눈 반도체 섹터는 각고의 연구개발(R&D)을 거치면서 국산화 기대주를 다수 배출, '자력갱생' 하고 있다. 더벨은 국내를 넘어 글로벌을 노리고 있는 반도체 소부장 기대주를 조명하는 자리를 마련한다.

이 기사는 2021년 12월 07일 07:30 thebell 에 표출된 기사입니다.

반도체·디스플레이 블랭크마스크 제조사 '에스앤에스텍'이 내년을 기점으로 대형 투자의 포문을 연다. 개발 막바지에 접어든 EUV 펠리클과 블랭크마스크 등이 내년부터 본격적으로 캐시플로를 창출할 것으로 예상되면서 2000억원 규모의 투자를 통해 EUV 부품소재 시장을 선점하겠다는 복안이다. 이 과정에서 고객사(ASML) 향 '퀄(품질인증)'이 1차 핵심 관문으로 거론된다.

대구 에스앤에스텍 본사에서 만난 신철 부사장(연구소장)은 "4년 전부터 EUV 펠리클 관련 연구개발을 진행했으며, 현재 고객사 퀄을 획득하기 위한 막바지 테스트가 한창"이라면서 "내년 펠리클 시제품 출시와 더불어 매출이 발생하기 시작하면, 관련 투자를 확대해 나갈 것"이라고 말했다.

에스앤에스텍이 EUV 펠리클·블랭크마스크 양산 진입과 시장점유율을 끌어올리기 위해 계획하고 있는 투자액은 총 2000억원 수준이다. 조달의 방식은 영업현금흐름을 활용한 내부투자가 가장 유력하다.

이 시장을 장악하고 있는 네덜란드 ASML, 일본 호야(HOYA), 아사히글라스(Asahi Glass) 등과 어깨를 견주려면 수천억원 수준의 CAPEX(자본지출) 투자가 수반돼야 한다는 게 내부 계산이다. 시장이 개화되고, 유의미한 점유율을 확보할 수 있다면 연간 수조원의 시장에서 경쟁할 수 있기 때문이다.

에스앤에스텍은 R&D 진척도에 따라 단계별 투자를 진행하고 있다. 변곡점은 삼성전자의 지분투자다. 삼성전자는 지난해 7월 말 에스앤에스텍의 3자배정 유상증자에 참여, 659억원을 투자했다. 현재 정수홍 에스앤에스텍 회장에 이어 8%(172만주)의 지분을 보유한 2대주주다.

지분투자 당시 삼성은 1년간의 보호예수를 설정했으나 1년 4개월이 지난 현재까지 지분을 보유하면서 결속을 과시하고 있다. 당시 업계에선 에스앤에스텍의 EUV 파이프라인 수율이 상당부분 올라왔다고 입을 모았다.

이후 에스앤에스텍은 설비 투자를 단계별로 진행하면서 세를 불리고 있다. 삼성전자 지분투자 직후인 지난해 9월 53억원을 들여 경기도 용인시 산업단지에 8421㎡ 규모의 부지를 마련했다. 자산총액 대비 4% 수준의 유형자산 취득 건이지만, 에스앤에스텍은 자율공시를 통해 '이원화 전략'을 시장에 공표했다. 현재 대구권역에 집중돼 있는 설비와 별개로 용인시를 중심으로 한 'EUV 연구·개발 거점'을 마련하겠다는 의미다. 대구는 옵티컬 블랭크마스크, 용인은 EUV 부품소재 식이다.

올해 6월 100억원 규모의 'EUV용 블랭크마스크 및 펠리클 관련 신규장비 투자' 건과 7월 110억원 규모의 추가 투자 건 역시 이 연장선에 있다. 특히 7월 투자의 경우 현재 EUV 노광 공정상에서 진행되고 있는 테스트와 연관이 깊다는 관측이다. 일각에서는 반도체 업계의 초미의 관심사인 EUV 펠리클 시제품 출시가 멀지 않았다는 의미로 해석하고 있다.

현재 에스앤에스텍은 네덜란드 ASML과 펠리클 및 블랭크마스크 공정 테스트를 진행하고 있다. 업계에선 ASML의 '퀄' 획득이 EUV 양산시장에 진입하는 '게이트웨이(관문)'가 될 것으로 보고 있다. 내년 하반기로 예상된다.

퀄 획득을 기점으로 에스앤에스텍의 투자 시계 역시 빨라질 전망이다. 삼성전자가 2023년, SK하이닉스가 2025년께 EUV 펠리클을 양산에 도입하겠다고 밝힌데다 ASML이 EUV 노광장비 시장을 독점하고 있는 공급사이기 때문이다. ASML 퀄을 획득하더라도 이후 개별 고객사의 퀄을 받아야 하지만, 노광기 스펙에 최적화됐다는 '공증'을 받으면 이 과정이 한결 수월해질 수 있다. ASML은 삼성전자, TSMC, 인텔 등 파운드리 톱티어 그룹에 'NXE 3400' 등의 EUV 노광장비를 대거 납품하고 있다. 대당 1800억원에서 사양에 따라 5000억원을 호가한다.
▲에스앤에스텍이 개발하는 EUV 펠리클.

펠리클은 고객사에서 요구하는 90%가량의 투과율을 충족한 거로 알려졌다. EUV 공정의 경우 빛을 반사하는 방식으로 노광이 이뤄지기 때문에 광원손실이 크지만 EUV 펠리클을 사용하면 손실율을 대폭 줄여주고, 고가의 포토마스크가 파티클에 오염되는 것도 막을 수 있다. 투과율만 놓고 보면 펠리클을 내재화한 TSMC보다 우수한 레퍼런스를 확보했다는 평가다.

현재 업계에서 통용되는 펠리클의 공급가격은 장당 통상 3만5000불(약 4000만원) 수준이다. 고객사 양산라인 진입에 성공할 경우 현재 700억~800억원 수준의 매출액에서 큰 변화가 생길 수 있다.

신 부사장은 "올해 초만 해도 고객사의 펠리클 도입에 대해 설왕설래가 있었으나 이제는 거스를 수 없는 대세가 됐다"면서 "바이닐 펠리클(폴리머 리퀴드 분사 방식) 기술은 한계가 있지만, 에스앤에스텍은 PSM(마스크의 해상도를 높이는 위상변위) 등 하이엔드 기술을 기반으로 양산에 집중하고 있기 때문에 경쟁력이 크다"고 말했다.

이어 "현재는 공장을 크게 조성해 두고 단계적인 투자로 내부의 설비 및 장비를 채워나갈 계획"이라며 "펠리클과 블랭크마스크의 투자가 종결되면 총 2000억원 규모가 될 것"이라고 말했다.
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