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에스앤에스텍의 자신감 "EUV 신시장 선점 나선다" [반도체 소부장 국산화 열전]③신철 부사장, 내년 극자외선 펠리클·블랭크마스크 시장 판도 변화 예고

대구=조영갑 기자공개 2021-12-13 08:44:36

[편집자주]

2019년 일본의 화이트리스트 품목 배제로 촉발된 소부장(소재·부품·장비) 국산화는 거스르기 힘든 순류(順流)를 만들었다. 특히 일본이 정면으로 겨눈 반도체 섹터는 각고의 연구개발(R&D)을 거치면서 국산화 기대주를 다수 배출, '자력갱생' 하고 있다. 더벨은 국내를 넘어 글로벌을 노리고 있는 반도체 소부장 기대주를 조명하는 자리를 마련한다.

이 기사는 2021년 12월 08일 09:13 thebell 에 표출된 기사입니다.

"그동안 개별적으로 국산화 부품 개발을 추진했지만, 2019년 하반기 일본의 무역도발이 거대한 전환점이 됐다. 고객사의 국산화 니즈에 정부의 정책지원이 더해지면서 R&D 부문에서 시너지가 발현됐고, EUV(극자외선) 부문에서 신시장 창출을 앞두고 있다."

에스앤에스텍은 명실상부한 반도체 부품 국산화의 대표주자다. 2001년 설립 이후 일본 제조사가 독점하고 있던 반도체·디스플레이 공정용 블랭크마스크를 국내 최초로 양산하면서 주목 받았다. 미국 포토마스크 제조사 Photronics(포트로닉스) COO(최고운영책임자) 출신 정수홍 대표의 집념이 빚어낸 결과다.

대구 본사에서 만난 신철 부사장(연구소장)은 정 대표를 도와 에스앤에스텍의 'EUV(극자외선) 시프트'를 이끌고 있는 인물이다. 신 부사장은 "내년 업계에 파란을 던질 수 있을 것"이라고 자신감을 내비쳤다.

신 부사장과의 인터뷰에는 2인의 핵심 연구원이 동석했다. 승병훈 수석연구위원과 김용대 책임연구원이다. 승 위원은 삼성전자 수석 출신으로 반도체 소재부품 R&D를 담당한 인물이다. 김 연구원 역시 SK하이닉스 수석 출신으로 반도체 공정 전문가다. 둘 다 올해 합류했다. 코스닥 반도체 섹터에서 보기 드물게 국내 양대 IDM(반도체종합회사)의 수석급 연구진을 확보했다는 평가다. 에스앤에스텍이 개발하는 EUV 펠리클, 블랭크마스크의 '타깃점'을 시사하는 대목이기도 하다.

2017년부터 EUV 펠리클 개발을 진두지휘한 신 부사장은 "펠리클 개발의 출발은 다소 늦었지만, 자체 연구소의 역량과 정부의 지원 등을 토대로 매우 빠른 속도로 양산단계에 진입하고 있다"면서 "ASML과의 공정 테스트를 거쳐 내년께 투과율 90% 수준의 시제품을 출시하고, 2023년께 고객사 양산라인에 진입할 수 있을 것"이라고 말했다. 2023년은 삼성전자가 EUV 펠리클을 도입하겠다고 밝힌 해다.

▲신철 에스앤에스텍 부사장(연구소장).
EUV 펠리클 양산은 단순히 국산화 차원에만 머무르는 게 아니다. 향후 EUV 소재부품의 지형도가 변하는 '사건'이 될 수 있다. 펠리클은 초고가의 EUV 포토마스크를 보호하는 얇은 버티컬막이다. 장당 수천만원을 호가한다. EUV 노광공정에서 광손실을 줄이고, 웨이퍼에 파티클 개입을 막는 역할을 한다.

현재 반도체 공정에서 EUV 펠리클을 사용하는 제조사는 대만의 TSMC가 유일한 거로 알려져 있다. TSMC는 웨이퍼 수율과 고부가가치 부품의 시장성을 간파하고 일찌감치 펠리클을 내재화했다. 그 결과, 비메모리 제조 파운드리의 명성을 쌓을 수 있었다. 신 부사장은 "EUV 초미세 선단 경쟁이 격화될수록 공정상에서 펠리클이 폭넓게 채택될 수밖에 없을 것"이라고 말했다.

공정상 글로벌 표준을 선도하는 삼성전자가 EUV 펠리클을 도입하면 해당 시장이 폭발적으로 커질 전망이다. 에스앤에스텍은 EUV 펠리클을 비롯해 블랭크마스크 시장이 연간 수조원 단위의 시장을 형성할 것으로 예측하고 있다. 노광기 시장을 독점하고 있는 ASML의 테스트 퀄(품질인증)을 획득하면 양산진입의 '첫차'를 탈 수 있다.

신 부사장은 "ASML의 요구 사항은 투과율 88% 이상인데, 에스앤에스텍이 개발한 펠리클의 기본 스펙은 89%, 실제 퍼포머는 90% 이상 나오고 있다"고 말했다. 기술적 요건은 완비됐다는 이야기다.

다만 에스앤에스텍의 또 다른 미래 먹거리 'EUV 블랭크마스크'는 펠리클에 비해 시일이 다소 걸릴 것으로 보인다. 우선 호야(HOYA), 아사히글라스 등 일본 제조사가 구축하고 있는 독점시장에 진입해야 한다. EUV 블랭크마스크 시장은 호야가 90%가량 장악하고 있다. PO 수량과 가격협상권 등 막강한 영향력을 유지하고 있다.

에스앤에스텍은 EUV 펠리클과 더불어 EUV 블랭크마스크를 대상으로 고객사 퀄 테스트를 진행하고 있다. 최근에는 ASML의 차세대 장비인 하이 NA EUV 장비에 대응하는 '하이(high) NA EUV' 블랭크마스크 개발에 착수하기도 했다. NA(렌즈수차) EUV 장비는 노광 렌즈의 해상력을 고도화해 초미세 회로를 구현하는 EUV 공정 핵심장비다. 비메모리 투자를 확대하는 인텔(Intel) 등이 대량 도입을 공언하면서 시장이 꿈틀거리고 있다.

신 부사장은 "EUV 블랭크마스크는 일본 제조사들의 입김이 매우 거세지만, 현재 고객사 대상 퀄 테스트가 잘 진행되고 있어 이르면 내년 말께 시제품을 납품할 수 있을 것"이라고 말했다.

에스앤에스텍은 올해 3분기 말 기준 매출액의 100%(712억원)를 옵티컬 블랭크마스크 부문에서 벌어들이고 있다. 내년 국내 고객사를 중심으로 테스트 물량이 늘어나면 EUV 펠리클, 블랭크마스크 부문에서 유의미한 매출액이 발생할 것으로 기대하고 있다.
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